1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象

（≥15MΩ.CM）（傳統(tǒng)工藝）

    2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（

≥16MΩ.CM）（工藝）

    3、預(yù)處理→一級反滲透→加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌

器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）（工藝）

    半導(dǎo)體芯片清洗超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ.cm、15MΩ.cm、

10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標(biāo)準(zhǔn)）、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

   公司設(shè)計(jì)、制造水處理凈化設(shè)備；主營：純水設(shè)備，去離子水設(shè)備，工業(yè)高純水設(shè)備，反滲透設(shè)備，軟化水設(shè)備，膠鹽水設(shè)備，除鹽水

設(shè)備，蒸餾水設(shè)備，工業(yè)高純水機(jī)，凈水機(jī)，離子交換設(shè)備，超純水設(shè)備，電子、醫(yī)藥、化工等行業(yè)工業(yè)純水設(shè)備，江、河、湖水凈化設(shè)

備等。